高低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～180℃），MGD20-20實(shí)現高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達到±0.1℃， 應用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。
高溫恒溫槽用于產(chǎn)品性能分析測試、計量檢定、化學(xué)反應工藝過(guò)程控制、普通溫度計及其它溫度測量?jì)x表制造中的定標用途。
高低溫一體恒溫槽MGD40-20為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源， 應用于-40℃～180℃（高至溫度195℃）石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用
高低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～180℃），MDG20-30實(shí)現高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達到±0.1℃， 應用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。
MDG40-54-高低溫恒溫槽（-40℃～180℃）實(shí)現高溫195℃，低溫-40℃恒溫測試，為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達到±0.1℃， 應用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。
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